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ALD 原子层沉积

原子层沉积（Atomic Layer Deposition）通过自限制表面反应实现原子级精度的薄膜沉积，臭氧作为关键氧化剂在 ALD 工艺中广泛应用。

工艺概述

ALD 工艺通过交替脉冲前驱体和反应物（包括臭氧），在晶圆表面逐层沉积超薄薄膜。每个 ALD 循环中，未反应的臭氧需要被彻底分解。ALD 工艺对尾气处理的要求极高，需要确保超低残留和快速响应。

尾气特征

  • 脉冲式进气

    ALD 工艺为脉冲式进气，要求尾气破坏器快速响应

  • 超低残留要求

    ALD 工艺对尾气处理效益要求极高，确保无臭氧残留

  • 精确控制

    需要与 ALD 工艺控制器联动的精确尾气管理

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更新：2026-08-10 11:14:03 | 链接：https://www.hljjiahui.com/applications/ald.html | 来源：宝马奔驰游戏机移动端微商城手机版远程运营控制中心 - ALD 原子层沉积臭氧尾气处理 - 解决规划 - 宝马奔驰游戏机